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本标准适于压力在10-4Pamdash

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2020-12-07 6:25:39 * 浏览: 5

真空镀膜公司此装置在高温下,在硅基片上外延生长硅单晶膜可制作出均匀膜层,膜层厚度1mu,m~2mu,m。。

东莞电镀价格本标准适于压力在10-4Pamdash,10-3Pa范围内蒸发类、溅射类、离子镀类真空镀膜设备(以下简称设备)    (1)设备主要技术参数    设备的主要技术参数见表10-27。    (2)极限压力的测定    ①试验条件:    a.镀膜室内为空载(即不安放被镀件);    b.真空测量规管应装于镀膜室壁上或z*靠近镀膜室的管道上;    c.所用真空计应为设备本身的配套者,并应在有效期内;    d.允许在抽气过程中用设备本身配有的加热轰击装置对镀膜室进行除气;    e.对具有中搁板、上卷绕室和镀膜室的卷绕镀膜设备,应在两室同时抽气时对镀膜室的压力进行测试。    ②测试方法:在对镀膜室连续抽气24h之内,测定其压力的z*低值,定为该设备的极限压力。当压力变化值在0.5h内不超过5%时,取测量表读数z*高值为极限压力值,且镀膜室内各旋转密封部位处于运动状态。    (3)抽气时间的测定    ①试验条件:同极限压力测定的试验条件之a、b、c、d。    ②测试方法:设备在连续抽气条件下,在镀膜室内达到极限压力之后,打开镀膜室15min,再关闭镀膜室对其再度抽气至表10-31中所规定的压力值所需的时间,定为该设备的抽气时间。    (4)升压率测定    ①试验条件:同极限压力测定。    ②测试方法:设备在连续抽气24h之内使镀膜室内达到稳定的z*低压力之后,关闭与镀膜室相连接的真空阀,待镀膜室压力上升至P1(1Pa)时,开始计时,经1h后记p2,然后按下式计算升压率:。

东莞pvd真空镀哪里有  除了上述应用之外,真空镀膜技术在激光同位素分离、复印技术、红外技术、包装、装饰、手工艺制品、催化以及敏感测量元件等方面都有重要的用途。

东莞纳米喷涂费用该装置示意图见图1图1改进的卷绕式蒸镀装置近年来,高速低温溅射法发展很快,使高熔点金属如铬、钛、钨、钼等的沉积成膜成为可能镀膜室直径1400mm,高2200mm的大型钟罩式溅射镀膜机和长mm,宽7.6mm的大型串列式溅射镀膜机已投入使用。最近,日本专利提出一种卷绕式溅射镀膜机,该机可镀两种不向的镀膜材料,并在溅射区和第二溅射区之间装温度控制装置(),加强对基材的冷却,保证在镀膜层较厚和沉积速度较快的情况下,基材不会发生卷缩和变形。该装置示意图见图1。真空室(1)装有溅射靶(4a4b)和阳极(14a14b),两个靶分别与直流电源(5a5b)相接,对塑料薄膜(8)进行溅射。辊筒(11a11b11c))有各自的冷却温度。。

东莞PVD镀膜工厂蒸发镀各种坩埚材料性能见表10-6。

从蒸镀材料方面来讲,蒸发源应能够蒸镀Al、Ti、Fe、Co、Cr及其合金,以及Si0、Si02、MgF、ZnS等。

电阻加热、高频加热、电子束加热方式各有特点,其性能比较见表10-3。

它主要由反应性低聚物、活性稀释剂、光引发剂和添加剂4部分组成,其质量配比一般为反应性低聚物30%~60%,活性稀释剂40%~60%,光引发剂1%~5%,各种添加剂0.2%~1%常用的反应性低聚物有不饱和聚酯、聚酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯和聚氨酯丙烯酸酯等。反应性低聚物是光固化涂料的主要组分,在结构上具有光固化基团,如各类不饱和双键或环氧基等,属于感光性树脂。它决定了固化后涂层的基本性能,其官能团的种类影响着涂料的固化速度。活性稀释剂兼有固化交联和溶剂的双重功能,在结构上是具有光固化基团的有机化合物。活性稀释剂种类很多,除了着重从反应活性和固化后涂层性能两方面的因素考虑外,还要对安全性(生理刺激性和毒性)予以特别考虑。目前使用的活性稀释剂大多为丙烯酸酯类单体。光引发剂是一类容易吸收紫外光能量而产生自由基或阳离子,引发低聚物和活性稀释剂中不饱和基团聚合的物质。按产生的活性中间体不同,光引发剂可分为自由基型光引发剂和阳离子型光引发剂两类。按其反应类型不同,前者又分为裂解型与夺氢型两类自由基光引发剂,主要有安息香二甲醚(DMPA)、alpha,-羟基-2,2二甲基苯乙酮(1173)和alpha,-羟基环己基苯基酮(184)、alpha,-胺烷基苯酮和酰基膦氧化物等品种。后者主要有芳香重氮盐、二芳基碘鎓盐、芳香铁鎓盐等。

表10-23给出了各种化合物薄膜形成方式,成膜条件、膜的特点及用途。

采用高频加热,温度可达1300℃mdash,1800℃,膜生长速率为0.2mu,m/min~1.0mu,m/min。