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高真空镀膜机的特点1、真空镀膜机采用箱式结构真空系统后置便于操作和和维修;整机表面平整便于清洁

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2020-12-06 5:59:44 * 浏览: 2

东莞表面处理费用要防止油带入真空室内,注意油扩散泵返油,对加热功率高的扩散泵必须采取挡油措施。

东莞?真空镀膜工艺各类镀膜设备及生产厂家见表10-31。

电镀加工价格    其实车身镀膜还有很多好处,比如:修复细微划痕、抗氧化、抗老化等作用那么车身镀膜由原来传统的水电镀工艺设备,发展到现在高科技的真空镀膜。那么后者更高效更环保,是现在镀膜工艺的s*先设备。。

真空镀膜公司在溅射粒子中,中性的靶原子(或分子)沉积在基片上形成薄膜;二次电子e1在加速飞向基片时受磁场B的洛仑兹力作用,以摆线和螺旋线状的复合形式在靶表面作圆周运动该电子e1的运动路径不仅很长,而且被电磁场束缚在靠近靶表面的等离子体区域内。在该区中电离出大量的离子Ar+用来轰击靶材,因此磁控溅射具有沉积速率高的特点。随着碰撞次数的增加,电子e1的能量逐渐降低,同时e1逐步远离靶面。低能电子e1将如图10-11中e3那样沿着磁力线来回振荡,待电子能量将耗尽时,在电场E的作用下z*终沉积在基片上。由于该电子的能量很低,传给基片的能量很小,使基片温升较低。在磁极轴线处电场与磁场平行,电子e2将直接飞向基片。但是,在磁控溅射装置中,磁极轴线处离子密度很低,所以e2类电子很少,对基片温升作用不大。综上所述,磁控溅射的基本原理就是以磁场改变电子运动方向,束缚和延长电子的运动路径,提高电子的电离概率和有效地利用了电子的能量。因此,在形成高密度等离子体的异常辉光放电中,正离子对靶材轰击所引起的靶材溅射更加有效,同时受正交电磁场的束缚的电子只能在其能量将要耗尽时才能沉积在基片上。这就是磁控溅射具有ldquo,低温、ldquo,高速两大特点的机理。

东莞电镀公司图10-9给出的是从一个小平面s到与s平面相平行的基片上的蒸发情况。

由此产生强电场使阴极表面上功函数小的点(晶界或微裂纹)开始发射电子    ②个别发射电子密度高的点产生高密度的电流,该电流产生的焦耳热使该点温度上升而进一步发射热电子。这种反馈作用使电流局部集中。    ③由于电流局部集中产生的焦耳热使阴极材料在此局部产生爆发性的等离子化而发射电子和离子,然后留下放电痕。同时放出熔融的阴极材料粒子。    ④发射的离子中的一部分被吸回阴极表面再次形成空间电荷层,产生强电场,又使新的功函数小的点开始发射电子。    这个过程反复进行,弧光辉点在阴极表面上激烈地、无规则地运动。弧光辉点过后,在阴极表面上留下分散的放电痕。研究结果表明,阴极辉点的数量一般与电流成正比增加,因此可以认为每一个辉点的电流是常数,并随阴极材料的不同而异,见表10-13。    上述阴极辉点极小,有关资料测定为1mu,m~100mu,m。所以辉点内的电流密度值可达105A/cmsup2,~107A/cmsup2,。

并且沉降在基片外表,通过成膜进程(散点-岛状构造-迷走构造-层状生长)形成薄膜关于溅射类镀膜,能够简单理解为使用电子或高能激光炮击靶材,并使外表组分以原子团或离子方式被溅射出来,并且终究堆积在基片外表,阅历成膜进程,终究形成薄膜。高真空镀膜机的特点1、真空镀膜机采用箱式结构,真空系统后置,便于操作和和维修;整机表面平整,便于清洁,特别适合放在净化间内作穿墙式安装。2、真空镀膜机真空系统抽速大,具有抽气时间短,真空度高,生产周期短等优点。?3、工件转动采用上部中心驱动,轴承带水冷,磁流体密封,转动平稳可靠。4、真空镀膜机先进的镀膜控制系统,人机操作界面美观实用,系统稳定可靠,可实现系统的手动、半自动和全自动操作。高真空镀膜机的适用范围1、修建五金:卫浴五金(如水龙头).门锁.门拉手.卫浴、五金合叶、家私等。2、制表业:可用于表壳.表带的镀膜、水晶制品。3、其它小五金:皮革五金.不锈钢餐具.眼镜框、刀具、模具等.4、大型工件:轿车轮毂、不锈钢板.招牌.雕塑等。5、不锈钢管和板(各品种型外表)6、家私、灯具、宾馆用具。7、锁具、拉手、卫浴五金、高尔夫球头、不锈钢餐具、器血等五金制品镀超硬装修膜。

各种蒸发器材料所适用的蒸发金属(膜材),其匹配性见表10-5。

真空镀膜中,镀膜机常用的蒸发源有电阻式加热蒸发源、电子束式加热蒸发源、空心热阴极等离子束蒸发源、感应式加热蒸发源  表10-7给出了适于蒸发各种元素的蒸发源材料。。

1973年日本村山洋研制成了射频放电离子镀(RFIP)装置,其原理图如图10-22所示此装置真空度为10-1Pa~10-2Pa,蒸镀物质原子离化度为10%,加热用的频率线圈高7cm,用3铜丝绕制,共7圈。射频源频率为13.56MHz或18MHz,功率1kW~2kW,直流偏压0~1500V。    此装置分三个区域:以蒸发源为中心的蒸发区;以高频线圈为中心的离化区;以基板为中心的离子加速区。三者有机地结合在一起,可以镀金属膜、化合物膜及合金膜。由于镀膜时真空度较高,使镀层针孔少、膜质均匀致密、纯度高,对制作超导膜及光学膜特别有利。    射频放电离子镀优点:①蒸发、离化、加速三种过程分别独立控制,离化靠射频激励,而不是靠加速直流电场,基板周围不产生阴极暗区。②工作压力低,成膜质量好。③基板温度较低,较容易控制。其不足是:由于真空度高,绕射性较差;要求频率源与电极之间需有匹配箱,并随镀膜参数变化而调节;蒸发源与频率源之间易产生干扰;射频对人体有害,需加防护。。