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东莞高精度真空镀膜费用

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2021-02-26 1:14:56 * 浏览: 0

东莞电镀厂家该系列坩埚共有四个品种,其标准尺寸见表10-1    内径坩埚的装料是1000g,坩埚使用寿命平均达18次~20次。为了延长坩埚使用寿命,在次装铝料时,应加入4%的钛,以后可适当减少,其目的是在坩埚的内表面形成一层TiC,以防止铝直接与坩埚发生反应。    除上述各种蒸镀方法外,其它蒸镀方法及其实用性见表10-2。。

东莞五金烤漆到达阳极孔时,电子能量可提高到10keV,通过阳极孔之后,电子束在偏转磁场的作用下偏转270o,入射到坩埚内的膜材表面上轰击膜材使之加热蒸发    电子束轰击膜材,将激发出许多有害的散射电子,如反射电子、背散射电子和二次电子等。图10-5中的吸收极6吸收这些有害电子,可以保护基片和膜层。    (2)空心热阴极等离子电子束蒸发源    空心热阴极等离子电子束蒸发源简称HCD枪。    ①HCD枪的工作原理及特点:    HCD枪的原理如图10-6所示。空心钽管作阴极,膜材作阳极,置于真空室中。用泵将真空室抽到高真空后,在钽管中通入少量的氩气,使真空室内保持1Pa~10-2Pa的真空度。这时在阴阳极之间加上引弧电源,点燃氩气。当电压达到点燃电压UB时,则氩气被电离。这样就在中空阴极内产生低压等离子体,直流放电电压约为100V~150V,电流只有几个安培。一旦氨气被电离,等离子体中正离子就会不断地轰击阴极钽管。

东莞PVD真空镀膜厂家    ①石墨坩埚加热器一般认为,连续式蒸发设备所使用的蒸发源应具备的性能是:蒸发效率应足够高;使用寿命应足够长;坩埚与蒸发材料不发生反应;能长时间稳定地蒸发并能自动补充蒸发材料。根据这些要求,目前所采用的加热方式有电阻加热、高频加热和电子束加热。在大多数镀铝设备中,采用z*多的还是直接通电的电阻加热蒸发源。蒸发源所用的坩埚材料一般为难熔金属(如W、Mo、Ta)和石墨。前者多用于间歇式蒸发设备中,后者多用于连续式蒸发设备中。    ②氮化硼合成导电陶瓷加热器。为了获得比石墨更加理想的蒸发器材料,在真空镀膜设备中,广泛采用了一种新的蒸发器,即氮化硼合成导电陶瓷加热器。这种加热器是由耐腐蚀、耐热性能优良的氧化物、硼化物等材料通过热压、涂敷而成的一种具有导电性的陶瓷材料。。

东莞PVD电镀基片进入镀膜室前均应进行认真的镀前清洁处理,达到工件去油、去污和脱水的目的    基片表面污染来自零件在加工、传输、包装过程所粘附的各种粉尘、润滑油、机油、抛光膏、油脂、汗渍等物,零件表面在潮湿空气中生成的氧化膜,零件表面吸收和吸附的气体。这些污物基本上均可采用去油或化学清冼方法将其去掉。    对经过清洗处理的清洁表面,不能在大气环境中存放,要用封闭容器或保洁柜贮存,以减小灰尘的沾污。用刚氧化的铝容器贮存玻璃衬底,可使碳氢化合物蒸气的吸附减至z*小。因为这些容器优先吸附碳氢化合物。对于高度不稳定的、对水蒸气敏感的表面,一般应贮存在真空干燥箱中。    清除镀膜室内的灰尘,设置清洁度高的工作间,保持室内高度清洁是镀膜工艺对环境的基本要求。空气湿度大的地区,除镀前要对基片、真空室内各部件认真清洗外,还要进行烘烤除气。要防止油带入真空室内,注意油扩散泵返油,对加热功率高的扩散泵必须采取挡油措施。。

真空镀膜公司在溅射粒子中,中性的靶原子(或分子)沉积在基片上形成薄膜;二次电子e1在加速飞向基片时受磁场B的洛仑兹力作用,以摆线和螺旋线状的复合形式在靶表面作圆周运动该电子e1的运动路径不仅很长,而且被电磁场束缚在靠近靶表面的等离子体区域内。在该区中电离出大量的离子Ar+用来轰击靶材,因此磁控溅射具有沉积速率高的特点。随着碰撞次数的增加,电子e1的能量逐渐降低,同时e1逐步远离靶面。低能电子e1将如图10-11中e3那样沿着磁力线来回振荡,待电子能量将耗尽时,在电场E的作用下z*终沉积在基片上。由于该电子的能量很低,传给基片的能量很小,使基片温升较低。在磁极轴线处电场与磁场平行,电子e2将直接飞向基片。但是,在磁控溅射装置中,磁极轴线处离子密度很低,所以e2类电子很少,对基片温升作用不大。综上所述,磁控溅射的基本原理就是以磁场改变电子运动方向,束缚和延长电子的运动路径,提高电子的电离概率和有效地利用了电子的能量。因此,在形成高密度等离子体的异常辉光放电中,正离子对靶材轰击所引起的靶材溅射更加有效,同时受正交电磁场的束缚的电子只能在其能量将要耗尽时才能沉积在基片上。这就是磁控溅射具有ldquo,低温、ldquo,高速两大特点的机理。

    ③溅射能量低磁控靶施加的电压低,等离子体被磁场约束在阴级附近,这样可抑制能量较高的带电粒子入射到基片上。    ④基片温度低。放电时产生的电子可以通过阳极导走,而不必通过接地的基片支架,可以大大减少电子轰击基片,因而基片温度不高。对塑料基底镀膜非常有利。    ⑤靶刻蚀不均匀。由于靶磁场不均匀,使其局部位置刻蚀速率较大,使靶材利用率仅为20%mdash,30%。为提高靶材利用率,可采取一定措施改变磁场分布,还可使磁铁在阴极中移动来提高靶材利用率。    ⑥制复合靶。为了镀合金膜可制作复合靶。图10-18给出了复合靶示意图。

    冷水机是一种水冷却设备,能提供恒温、恒流、恒压的冷却水设备其工作原理是先向机内水箱注入一定量的水,通过制冷系统将水冷却,再由水泵将低温冷却水送入需冷却的设备,冷冻水将热量带走后温度升高再回流到水箱,达到冷却的作用。冷却水温可根据要求自动调节,长期使用可节约用水。    冷水机能控制真空镀膜机的温度,以保证镀件的高质量。如果不配冷水机就不能使真空镀膜机达到高精度、高效率控制温度的目的,因为自然水和水塔散热都不可避免地受到自然气温的影响,而且此方式控制是极不稳定的。    冷水机具有完全独立的制冷系统,绝不会受气温及环境的影响,水温在5℃~30℃范围内调节控制,因而可以达到高精度、高效率控制温度的目的,冷水机设有独立的水循环系统。。

由于离子易于被电磁场加速或偏转,故真空溅射镀均选择离子束轰击靶材.使其原子被溅射出来沉积到基片上形成薄膜每个离子溅射产额不仅与入射离子能量、入射角、离子质量有关,同时还与靶材种类、原子序数、靶面原子结合状态以及结晶取向有关。一般产额为0.1mdash,10(原子离子),大部原子能量小于20eV,并且为中性据多。    原子溅射产额与入射离子能量有关,只有离子能量超过溅射阈值能量时才能发生溅射。当离子能量超过阈值后,随着离子能量增加,在150eV以前,溅射产额与离子能量平方成正比;在150eVmdash,1keV范围与离子能量成正比,在1keV~10keV范围内基本不变。当用惰性气体氩离子及氖离子轰击靶材时,由于能量不同,溅射产额亦不同。    表10-8给出了500eV的离子溅射产额。    各种溅射方法镀膜原理及特点由表10-9给出。。

电阻式加热方式常用蒸发源材料有钨、钽、铝等其性能见表10-4。    表10-4蒸发源所用金属材料的性质。

三者有机地结合在一起,可以镀金属膜、化合物膜及合金膜由于镀膜时真空度较高,使镀层针孔少、膜质均匀致密、纯度高,对制作超导膜及光学膜特别有利。    射频放电离子镀优点:①蒸发、离化、加速三种过程分别独立控制,离化靠射频激励,而不是靠加速直流电场,基板周围不产生阴极暗区。②工作压力低,成膜质量好。③基板温度较低,较容易控制。其不足是:由于真空度高,绕射性较差;要求频率源与电极之间需有匹配箱,并随镀膜参数变化而调节;蒸发源与频率源之间易产生干扰;射频对人体有害,需加防护。。