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东莞稳定性好真空镀膜费用

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2021-02-18 13:00:49 * 浏览: 7

纳米喷涂厂家真空镀膜设备主要类型有真空蒸发镀膜设备、磁控溅射镀膜设备、离子镀膜设备、化学气相沉积镀膜设备等各类镀膜设备及生产厂家见表10-31。。

东莞纳米涂层工艺采用高频加热,温度可达1300℃mdash,1800℃,膜生长速率为0.2mu,m/min~1.0mu,m/min。

电镀公司它们的工作原理是相同的,以图10-11说明如下:电子在电场作用下,加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞若电子具有足够的能量(约为30eV)时,则电离出Ar+并产生电子。电子飞向基片,Ar+在电场作用下加速飞向阴极(溅射靶)并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子(或分子)沉积在基片上形成薄膜;二次电子e1在加速飞向基片时受磁场B的洛仑兹力作用,以摆线和螺旋线状的复合形式在靶表面作圆周运动。该电子e1的运动路径不仅很长,而且被电磁场束缚在靠近靶表面的等离子体区域内。在该区中电离出大量的离子Ar+用来轰击靶材,因此磁控溅射具有沉积速率高的特点。随着碰撞次数的增加,电子e1的能量逐渐降低,同时e1逐步远离靶面。低能电子e1将如图10-11中e3那样沿着磁力线来回振荡,待电子能量将耗尽时,在电场E的作用下z*终沉积在基片上。由于该电子的能量很低,传给基片的能量很小,使基片温升较低。在磁极轴线处电场与磁场平行,电子e2将直接飞向基片。但是,在磁控溅射装置中,磁极轴线处离子密度很低,所以e2类电子很少,对基片温升作用不大。

表面处理工厂    电弧法涉及到从阴极弧光辉点放出的阴极物质的离子阴极弧光辉点是存在于极小的空间的高电流密度高速变化的一种现象,其机理尚不完全清楚。按J.E.Daolder的解释,能较好地利用图10-23说明这一现象。    ①被吸到阴极表面的金属离子形成空间电荷层。由此产生强电场使阴极表面上功函数小的点(晶界或微裂纹)开始发射电子。    ②个别发射电子密度高的点产生高密度的电流,该电流产生的焦耳热使该点温度上升而进一步发射热电子。这种反馈作用使电流局部集中。    ③由于电流局部集中产生的焦耳热使阴极材料在此局部产生爆发性的等离子化而发射电子和离子,然后留下放电痕。同时放出熔融的阴极材料粒子。    ④发射的离子中的一部分被吸回阴极表面再次形成空间电荷层,产生强电场,又使新的功函数小的点开始发射电子。    这个过程反复进行,弧光辉点在阴极表面上激烈地、无规则地运动。

东莞电镀厂家    (1)磁偏转式电子束加热蒸发源    电子束作为熔化膜材的热源,其种类较多,诸如熔滴式、直枪式、环式等由于这些热源在用于真空蒸镀设备上均存在许多缺点,因此已被磁偏转式电子束热源所代替。    磁偏转式电子束蒸发源所发射的电子轨迹与e相似,故有e型电子束源之称,简称e型枪。图10-4给出了国产两种型式的e型枪。e型枪的工作原理如图10-4所示。阴极灯丝加热后发射出具有0.3eV初始动能的热电子,这些热电子在灯丝阴极与阳极之间受极间电场制约,不但可以按一定的会聚角会聚成束状,而且还会受磁场的作用,沿Etimes,B的方向偏转。到达阳极孔时,电子能量可提高到10keV,通过阳极孔之后,电子束在偏转磁场的作用下偏转270o,入射到坩埚内的膜材表面上轰击膜材使之加热蒸发。    电子束轰击膜材,将激发出许多有害的散射电子,如反射电子、背散射电子和二次电子等。图10-5中的吸收极6吸收这些有害电子,可以保护基片和膜层。    (2)空心热阴极等离子电子束蒸发源    空心热阴极等离子电子束蒸发源简称HCD枪。    ①HCD枪的工作原理及特点:    HCD枪的原理如图10-6所示。

真空镀膜中,镀膜机常用的蒸发源有电阻式加热蒸发源、电子束式加热蒸发源、空心热阴极等离子束蒸发源、感应式加热蒸发源    在设计蒸发源时,需注意事项是:①蒸发源要使膜材有较高的蒸发率,并能存贮足够的膜材;②蒸发率易控制;③长时间工作稳定性要好;④蒸发源需有较长的寿命,可靠性要高;⑤运转费用低,易于维护。从蒸镀材料方面来讲,蒸发源应能够蒸镀Al、Ti、Fe、Co、Cr及其合金,以及Si0、Si02、MgF、ZnS等。。

将光固化脂环族环氧树脂改性丙烯酸酯涂料均匀地喷涂在工件表面,固化后的涂膜厚度达15~20mu,m    (4)涂膜流平:工件进入涂装生产线的流平阶段,红外线加热,温度控制在55~60℃范围。    (5)涂膜的光固化:按脂环族环氧树脂改性丙__烯酸酯涂料光固化能量的要求,开启上灯(5.6kW和8.0kW)2个,左右灯(6.6kW)各1个,底灯(8.0kW)1个。固化时间为45~60s。    (6)光固化后的延伸:工件经延伸段进入真空镀膜室。    (7)真空镀钛氧化物底镀层:用中频磁控溅射镀膜设备镀覆。真空室内装有一对孪生平面磁控钛靶,供电的溅射电源规格是30kVA、40kHz。先抽真空至6times,10-3Pa,工件架转动,然后充一定比例的Ar和O2。调节各种参数,进行溅射镀膜5min。    (8)真空镀铬膜:用阴极电弧离子镀设备镀覆。先抽真空至6times,10-3Pa,工件架转动,充入Ar至真空度为1.5times,10-1Pa。

离子镀应用领域见表10-14。

蒸发镀各种坩埚材料性能见表10-6。

目前各类镀膜设备基本齐全,种类繁多,满足了各行业的需要真空镀膜设备主要类型有真空蒸发镀膜设备、磁控溅射镀膜设备、离子镀膜设备、化学气相沉积镀膜设备等。  各类镀膜设备主要性能见表10-32~表10-35。。