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东莞稳定性好真空镀膜工艺

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2021-02-12 1:22:39 * 浏览: 27

电镀厂家它们的工作原理是相同的,以图10-11说明如下:电子在电场作用下,加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞若电子具有足够的能量(约为30eV)时,则电离出Ar+并产生电子。电子飞向基片,Ar+在电场作用下加速飞向阴极(溅射靶)并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子(或分子)沉积在基片上形成薄膜;二次电子e1在加速飞向基片时受磁场B的洛仑兹力作用,以摆线和螺旋线状的复合形式在靶表面作圆周运动。该电子e1的运动路径不仅很长,而且被电磁场束缚在靠近靶表面的等离子体区域内。在该区中电离出大量的离子Ar+用来轰击靶材,因此磁控溅射具有沉积速率高的特点。随着碰撞次数的增加,电子e1的能量逐渐降低,同时e1逐步远离靶面。低能电子e1将如图10-11中e3那样沿着磁力线来回振荡,待电子能量将耗尽时,在电场E的作用下z*终沉积在基片上。由于该电子的能量很低,传给基片的能量很小,使基片温升较低。在磁极轴线处电场与磁场平行,电子e2将直接飞向基片。但是,在磁控溅射装置中,磁极轴线处离子密度很低,所以e2类电子很少,对基片温升作用不大。

表面处理工厂真空电弧离子镀是由美国Multi-Arc公司和Vac-Tec公司联合开发的,1981年达到工业实用化阶段    电弧离子镀的原理是基于冷阴极真空弧光放电理论提出的。该理论认为放电过程的电量迁移是借助于场电子发射和正离子电流这两种机制同时存在且相互制约而实现的。在放电过程中,阴极材料大量蒸发,这些蒸气分子所产生的正离子在阴极表面附近很短的距离内产生极强的电场,在这样强的电场作用下,电子产生ldquo,场电子发射,而逸到真空中去,其发射的电流密度Jc表达式为    而正离了流可占总的电弧电流的10%左右,但在理论计算上尚存在一定难度,还不能够确切地建立和求解阴极弧光辉点内的质量、能量和电量的平衡关系。    电弧法涉及到从阴极弧光辉点放出的阴极物质的离子。阴极弧光辉点是存在于极小的空间的高电流密度高速变化的一种现象,其机理尚不完全清楚。按J.E.Daolder的解释,能较好地利用图10-23说明这一现象。    ①被吸到阴极表面的金属离子形成空间电荷层。由此产生强电场使阴极表面上功函数小的点(晶界或微裂纹)开始发射电子。    ②个别发射电子密度高的点产生高密度的电流,该电流产生的焦耳热使该点温度上升而进一步发射热电子。这种反馈作用使电流局部集中。

PVD镀膜真空镀膜中,镀膜机常用的蒸发源有电阻式加热蒸发源、电子束式加热蒸发源、空心热阴极等离子束蒸发源、感应式加热蒸发源    在设计蒸发源时,需注意事项是:①蒸发源要使膜材有较高的蒸发率,并能存贮足够的膜材;②蒸发率易控制;③长时间工作稳定性要好;④蒸发源需有较长的寿命,可靠性要高;⑤运转费用低,易于维护。从蒸镀材料方面来讲,蒸发源应能够蒸镀Al、Ti、Fe、Co、Cr及其合金,以及Si0、Si02、MgF、ZnS等。。

电镀加工费用图10-31为热壁反应室结构简图,减压装置的工作压力为10Pa~1000Pa。

真空镀膜厂家在铝淀积厚度为40nm时,卷绕速度可达270m/min,比电阻热源大10倍左右    ②蒸发源温度均匀稳定,不易产生铝滴飞溅现象。可避免铝滴淀积在薄膜上产生针孔现象。所以采用感应加热方法生产金银丝的成品率亦相应提高。    ③蒸发源一次装料,无需送丝机构,温度控制比较容易,操作比较简单。    ④对膜材纯度要求低。一般真空感应加热用99.9%纯度的铝,而电阻加热要求铝的纯度为99.99%。所以生产成本亦可降低。    (2)感应加热式蒸发源的结构    日本真空株式会社(ULVAC)生产的EW系列卷绕式高真空镀膜机中用的感应加热式蒸发源结构,如图10-8所示。电源为高频发电机组,电压450V,频率为9727Hz。该系列坩埚共有四个品种,其标准尺寸见表10-1。

卷绕式镀膜机30年来有了较大的发展,镀膜产品广泛用于装饰、包装、电容器等领域中,可镀光学、电学、电磁、导电等多种薄膜所用基材有PE、PET、PI、PP、OPP、BOPP、纸、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量为1%~2%,纸含水量更大,一般为5%-7%,经涂布烘干后,含水量仍有3%。由于基材含水量高,故镀膜室由初始的单室发展到目前双室或多室结构。蒸发源可以是电阻式、感应式、电子柬式以及磁控溅射式。双室结构应用普遍,其优点是:①可以蒸镀放气量较大的纸基材,并能保障镀膜质量。纸放出的大量气体从卷绕室中被排走。由于卷绕室与蒸镀室之间隔板窄缝很小,使放出来的气体不易进入蒸镀室中;②单室结构必须配置较大的排气系统才能保障蒸镀时的工作压力,而双室结构中的蒸镀室气体量较小,可配小型抽气机组,使设备成本降低,并节约能源;③卷绕室与蒸镀室分别抽气,可缩短抽气时间。    卷绕式真空镀膜机在结构上除了有一般镀膜机所有的结构外,必须有一个为了实现连续镀膜而设置的卷绕机构。由于被镀基体是纸或塑料,放气量较大,因此,在真空室的结构上又有单室和多室之分,卷绕式双室真空镀膜机的结构如图10-10所示。    卷绕机构设计中应考虑的几个问题:    ①提高卷绕速度的问题。

各种蒸发器材料所适用的蒸发金属(膜材),其匹配性见表10-5。

当用惰性气体氩离子及氖离子轰击靶材时,由于能量不同,溅射产额亦不同    表10-8给出了500eV的离子溅射产额。    各种溅射方法镀膜原理及特点由表10-9给出。。

装置采用射频感应加热,反应在基片与感应体附近发生,管壁沉积很少,硅膜生长速率为1mu,m/minmdash,3mu,m/min。

各类镀膜设备及生产厂家见表10-31。