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某某机械轴承科技有限公司

中山防潮性强真空镀膜工艺

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2021-01-22 2:24:32 * 浏览: 0

PVD镀膜目前各类镀膜设备基本齐全,种类繁多,满足了各行业的需要真空镀膜设备主要类型有真空蒸发镀膜设备、磁控溅射镀膜设备、离子镀膜设备、化学气相沉积镀膜设备等。各类镀膜设备及生产厂家见表10-31。。

真空镀膜    1真空镀膜用光固化涂料    1.1光固化涂料的组成    光固化涂料在光能辐照下吸收光能,引起交联、聚合等化学反应,促使液态涂料固化它主要由反应性低聚物、活性稀释剂、光引发剂和添加剂4部分组成,其质量配比一般为反应性低聚物30%~60%,活性稀释剂40%~60%,光引发剂1%~5%,各种添加剂0.2%~1%。常用的反应性低聚物有不饱和聚酯、聚酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯和聚氨酯丙烯酸酯等。反应性低聚物是光固化涂料的主要组分,在结构上具有光固化基团,如各类不饱和双键或环氧基等,属于感光性树脂。它决定了固化后涂层的基本性能,其官能团的种类影响着涂料的固化速度。活性稀释剂兼有固化交联和溶剂的双重功能,在结构上是具有光固化基团的有机化合物。活性稀释剂种类很多,除了着重从反应活性和固化后涂层性能两方面的因素考虑外,还要对安全性(生理刺激性和毒性)予以特别考虑。目前使用的活性稀释剂大多为丙烯酸酯类单体。光引发剂是一类容易吸收紫外光能量而产生自由基或阳离子,引发低聚物和活性稀释剂中不饱和基团聚合的物质。按产生的活性中间体不同,光引发剂可分为自由基型光引发剂和阳离子型光引发剂两类。按其反应类型不同,前者又分为裂解型与夺氢型两类自由基光引发剂,主要有安息香二甲醚(DMPA)、alpha,-羟基-2,2二甲基苯乙酮(1173)和alpha,-羟基环己基苯基酮(184)、alpha,-胺烷基苯酮和酰基膦氧化物等品种。

防指纹此装置原理图如图10-30所示采用高频加热,温度可达1300℃mdash,1800℃,膜生长速率为0.2mu,m/min~1.0mu,m/min。。

塑胶喷涂用CVD法还可以制作微细晶粒的纯致密金属,制造形状复杂的金属制品,如钨坩埚、管件、喷嘴等CVD法涂覆难熔金属的反应式及温度由表10-21给出。。

表面处理此装置简图如图10-29所示装置采用射频感应加热,反应在基片与感应体附近发生,管壁沉积很少,硅膜生长速率为1mu,m/minmdash,3mu,m/min。。

那么后者更高效更环保,是现在镀膜工艺的s*先设备。

氮化硼由于电学及热学性能好,使用寿命长,因而较为普遍地应用于卷绕镀膜机中每个坩埚的加热功率为6kWmdash,8kW,加热电压为10Vmdash,12V。坩埚数量由基材幅宽来确定。辐宽愈宽坩埚数量愈多。幅宽500mm时4只坩埚,800mm时7只坩埚,1300mm时12只坩埚。坩埚分布是不均匀的,中间部分间距大些,在基材边缘处间距小,有的z*外侧坩埚与基材幅宽边缘重合。。

    冷水机能控制真空镀膜机的温度,以保证镀件的高质量如果不配冷水机就不能使真空镀膜机达到高精度、高效率控制温度的目的,因为自然水和水塔散热都不可避免地受到自然气温的影响,而且此方式控制是极不稳定的。    冷水机具有完全独立的制冷系统,绝不会受气温及环境的影响,水温在5℃~30℃范围内调节控制,因而可以达到高精度、高效率控制温度的目的,冷水机设有独立的水循环系统。。

开充气阀,听不到气流声后,启动升钟罩阀,钟罩升起4、安装固定钨螺旋加热子。把PVDF薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位,保证无任何杂质污物。5、落下钟罩。6、启动抽真空机械泵。7、开复合真空计电源(复合真空计型号:Fzh-1A)。a、左旋钮”1”顺时针旋转至指向2区段的加热位置。b、低真空表”2”内指针顺时针移动,当指针移动至110mA时,左旋钮”1”旋转至指向2区段测量位置。8、当低真空表”2”内指针再次顺时针移动至6.7Pa时,低压阀推入。

表10-23给出了各种化合物薄膜形成方式,成膜条件、膜的特点及用途。